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发布日期:2026年4月10日
近日,台积电北美封装解决方案主管在行业会议上指出,随着AI算力需求暴增,先进封装正成为全球科技供应链的下一个关键瓶颈。所有高端AI芯片都需要经过精密封装,才能将计算芯片与高带宽内存(HBM)整合成最终可用产品。这一表态引发了业界对先进封装工艺及配套设备的广泛关注。

(等离子清洗实际在键合前、FlipChip前都会用到,微波等离子清洗机尤其适合大面积的基板或者芯片底部清洗)
先进封装技术是实现芯片高性能、小型化的关键环节。在封装过程中,晶圆表面的洁净度直接影响封装质量和成品率。任何微小的颗粒污染都可能导致电连接失效、散热不良等严重问题,因此对晶圆清洗设备提出了极高的要求。
行业分析师指出,随着2.5D/3D封装、Chiplet等先进封装技术的普及,晶圆在封装流程中需要经过多次清洗工序,清洗设备的性能直接影响封装良率和生产效率。

(注:等离子主要去除有机颗粒物,无机颗粒物需要其他清洗设备处理)
针对先进封装对晶圆洁净度的严苛要求,微波等离子清洗技术凭借其独特优势脱颖而出:
当前,全球先进封装产能主要集中在亚洲地区,中国大陆正在加速布局。本土半导体设备企业凭借技术积累和服务优势,正在快速崛起。在晶圆清洗设备领域,国产微波等离子清洗机已具备与国际品牌竞争的实力,为国内封装企业提供更灵活、更具性价比的选择。
业内人士认为,先进封装瓶颈的出现,既是挑战也是机遇。对国产半导体设备企业而言,这是证明自身技术实力、加速市场渗透的绝佳时机。
关于我们
我们专注于微波等离子清洗设备和微波等离子去胶机的研发与制造,产品广泛应用于半导体前道、先进封装、LED、MEMS等领域。如需了解更多产品信息或技术方案,欢迎联系我们。
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